Investor Relations Kontakte

Herzogenrath, 20. November 2025 – AIXTRON SE (FSE: AIXA) freut sich bekanntzugeben, dass in Zusammenarbeit mit der Ohio State University ein Close Coupled Showerhead®-System für die Metallorganische Gasphasenepitaxie (CCS MOCVD) installiert wird. Das AIXTRON-System wird für die fortschrittliche Epitaxie von Galliumoxid (GaO) und Aluminium-Galliumoxid (AlGaO) zur Material- und Bauelemententwicklung auf 100-mm-Substraten eingesetzt. Dieses hochmoderne MOCVD-System trägt entscheidend zur Weiterentwicklung von Wide-Bandgap- und Ultra-Wide-Bandgap-Technologien bei.

Das AIXTRON CCS MOCVD-System ist bekannt für seine Zuverlässigkeit und Leistungsfähigkeit. Es ermöglicht die Abscheidung hochwertiger, homogener Dünnschichten für eine breite Palette von Verbindungshalbleitern. Galliumoxid und seine Legierungen zeichnen sich durch überlegene Eigenschaften bei hohen Spannungen, Frequenzen und Temperaturen im Vergleich zu herkömmlichen Halbleitermaterialien aus. Mit dem neuen System können Forscher der Ohio State die Materialeigenschaften untersuchen, neuartige Bauelementarchitekturen entwickeln und die Grenzen der Halbleitertechnologie erweitern.

„Über viele Jahre hinweg und auch in unserer aktuellen Arbeit haben wir mit unserem bestehenden AIXTRON CCS MOCVD-System für GaAs- und InP-basierte Halbleiter große Forschungserfolge erzielt. Aufbauend auf den von AIXTRON entwickelten Prozessen für Galliumoxid (GaO) und Aluminium-Galliumoxid (AlGaO) freuen wir uns darauf, mit diesem System neuartige Epitaxieschichten und Bauelemente zu entwickeln“, erklärt Professor Steven A. Ringel, Senior Associate Vice President of Research an der Ohio State University und Executive Director des Institute for Materials and Manufacturing Research (IMR). Er ergänzt: „Die größere Wafergröße dieses Systems erweitert unsere laufenden Forschungsarbeiten zu Galliumoxid-MOCVD in Richtung Prototyping-Maßstab und wird unsere Industriekooperationen voranbringen.“

Dr. Felix Grawert, Vorstandsvorsitzender der AIXTRON SE, betont: „Wir freuen uns sehr über die Lieferung und den Einsatz dieses CCS MOCVD-Systems an der Ohio State sowie über die Zusammenarbeit mit den renommierten Professoren Hongping Zhao, Siddharth Rajan und Steven Ringel. Unsere CCS MOCVD-Systeme haben sich stets durch herausragende Leistungen bei der Unterstützung führender akademischer Forschung und der nahtlosen Skalierung auf Tier-1-industrial applications bewährt. Besonders begeistert sind wir von den vielversprechenden Fortschritten in der Galliumoxid-Technologie, die die nächste Generation von Leistungsbauelementen einläuten.“

Der für Ga₂O₃ geeignete MOCVD-Reaktor wird im Nanotech West Lab installiert, einer 3.500 m² großen Shared-User-Einrichtung für die Material-Community der Ohio State University. Das Labor wird vom IMR betrieben, einem interdisziplinären Institut, das Infrastruktur, Entwicklung und Management wichtiger Forschungszentren und Core Facilities an der Ohio State bereitstellt.

  

Ansprechpartner

Christian Ludwig

Vice President Investor Relations & Corporate Communications

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e-mail c.ludwig@aixtron.com

 

Über die Ohio State University

Die Ohio State University in Columbus, Ohio, ist bekannt für ihre starken akademischen Programme, ihre Spitzenforschung und ihr pulsierendes Campusleben. Als eine der größten Universitäten der Vereinigten Staaten spielt sie eine zentrale Rolle in den Bereichen Innovation, Bildung und gesellschaftliches Engagement in einer Vielzahl von Disziplinen.

 

Über AIXTRON

Die AIXTRON SE (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) ist ein führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Unternehmen wurde 1983 gegründet und hat seinen Sitz in Herzogenrath (Städteregion Aachen) sowie Niederlassungen und Repräsentanzen in Asien, den USA und in Europa. Die Technologielösungen der Gesellschaft werden weltweit von einem breiten Kundenkreis zur Herstellung von leistungsstarken Bauelementen für elektronische und optoelektronische Anwendungen auf Basis von Verbindungshalbleiter- oder organischen Halbleitermaterialien genutzt. Diese Bauelemente werden in einer Vielzahl innovativer Anwendungen, Technologien und Industrien eingesetzt. Dazu gehören beispielsweise Laser-, LED-, und Displaytechnologien, Datenübertragung, SiC- und GaN-Energiemanagement und ‑umwandlung, Kommunikation, Signal‑ und Lichttechnik sowie viele weitere anspruchsvolle High-Tech-Anwendungen.

Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT(R), AIXTRON(R), APEVA(R), Atomic Level SolutionS(R), Close Coupled Showerhead(R), CRIUS(R), EXP(R), EPISON(R), Gas Foil Rotation(R), Optacap(TM), OVPD(R), Planetary Reactor(R), PVPD(R), STExS(R), TriJet(R)

Weitere Informationen über AIXTRON (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) sind im Internet unter www.aixtron.com  verfügbar.

 

Zukunftsgerichtete Aussagen

Dieses Dokument kann zukunftsgerichtete Aussagen über das Geschäft, die Finanz- und Ertragslage und Gewinnprognosen von AIXTRON enthalten. Begriffe wie "können", "werden", "erwarten", "rechnen mit", "erwägen", "beabsichtigen", "planen", "glauben", "fortdauern" und "schätzen", Abwandlungen solcher Begriffe oder ähnliche Ausdrücke kennzeichnen diese zukunftsgerichteten Aussagen. Solche zukunftsgerichtete Aussagen geben die gegenwärtigen Beurteilungen, Erwartungen und Annahmen des AIXTRON Managements, von denen zahlreiche außerhalb des AIXTRON Einflussbereiches liegen, wieder und gelten vorbehaltlich bestehender Risiken und Unsicherheiten. Sie sollten kein unangemessenes Vertrauen in die zukunftsgerichteten Aussagen setzen. Sollten sich Risiken oder Ungewissheiten realisieren oder sollten zugrunde liegende Erwartungen zukünftig nicht eintreten beziehungsweise es sich herausstellen, dass Annahmen nicht korrekt waren, so können die tatsächlichen Ergebnisse, Leistungen und Erfolge von AIXTRON wesentlich von denjenigen Ergebnissen abweichen, die ausdrücklich oder implizit in der zukunftsgerichteten Aussage genannt worden sind. Dies kann durch Faktoren verursacht werden, wie zum Beispiel die tatsächlich von AIXTRON erhaltenen Kundenaufträge, den Umfang der Marktnachfrage nach Depositionstechnologie, den Zeitpunkt der endgültigen Abnahme von Erzeugnissen durch die Kunden, das Finanzmarktklima und die Finanzierungsmöglichkeiten von AIXTRON, die allgemeinen Marktbedingungen für Depositionsanlagen, und das makroökonomische Umfeld, Stornierungen, Änderungen oder Verzögerungen bei Produktlieferungen, Beschränkungen der Produktionskapazität, lange Verkaufs- und Qualifizierungszyklen, Schwierigkeiten im Produktionsprozess, die allgemeine Entwicklung der Halbleiterindustrie, eine Verschärfung des Wettbewerbs, Wechselkursschwankungen, die Verfügbarkeit öffentlicher Mittel, Zinsschwankungen bzw. Änderung verfügbarer Zinskonditionen, Verzögerungen bei der Entwicklung und Vermarktung neuer Produkte, eine Verschlechterung der allgemeinen Wirtschaftslage sowie durch alle anderen Faktoren, die AIXTRON in öffentlichen Berichten und Meldungen, insbesondere im Abschnitt Risiken des Jahresberichts, beschrieben hat. In dieser Mitteilung enthaltene zukunftsgerichtete Aussagen beruhen auf den gegenwärtigen Einschätzungen und Prognosen des Vorstands basierend auf den zum Zeitpunkt dieser Mitteilung verfügbaren Informationen. AIXTRON übernimmt keine Verpflichtung zur Aktualisierung oder Überprüfung zukunftsgerichteter Aussagen wegen neuer Informationen, künftiger Ereignisse oder aus sonstigen Gründen, soweit keine ausdrückliche rechtliche Verpflichtung besteht.

Dieses Dokument liegt ebenfalls in englischer Übersetzung vor, bei Abweichungen geht die deutsche maßgebliche Fassung des Dokuments der englischen Übersetzung vor.

AIXTRON Q3/2025 mit starkem Free Cashflow,  Volumenverschiebungen und Wechselkurseffekten

 

Free Cashflow weiter stark verbessert / Starke Nachfrage für die G10-AsP aus dem Bereich Datenkommunikation für KI-Rechenzentren / 100. G10-SiC-Anlage ausgeliefert /  Jahresprognose für 2025 angepasst

 

Herzogenrath, 30. Oktober 2025 – AIXTRON SE (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) veröffentlicht Geschäftszahlen im Einklang mit der Mitteilung vom 17. Oktober 2025 und berichtet Umsatzerlöse von EUR 119,6 Mio. für das dritte Quartal. Damit liegt das Unternehmen in der unteren Hälfte der für das dritte Quartal prognostizierten Spanne von EUR 110 Mio. bis EUR 140 Mio., was das allgemein schwache Marktumfeld widerspiegelt. Der Umsatz für die ersten neun Monate betrug EUR 369,5 Mio. (9M/2024: EUR 406,4 Mio.).

 

Der weitere Ausbau von KI-Rechenzentren bleibt der Treiber für die Nachfrage nach Anlagen im Bereich Optoelektronik. Der im zweiten Quartal beobachtete Anstieg der Nachfrage nach Datenkommunikationslasern hat sich im dritten Quartal bestätigt und wird voraussichtlich auch in 2026 anhalten. Die G10-AsP-Plattform von AIXTRON gewann weiter Marktanteile und ersetzte erfolgreich ältere Systeme bei führenden Kunden.

 

Während die Nachfrage der Automobilindustrie nach SiC-Leistungsbauelementen weiterhin schwach ist, erreichte AIXTRON im dritten Quartal mit der Auslieferung seines 100. G10-SiC-CVD-Systems seit der Produkteinführung einen bedeutenden Meilenstein. Gleichzeitig verzeichnen GaN-Kunden eine höhere Auslastung aufgrund der Nachfrage nach Rechenzentren – sowohl für Mittel- als auch für Niederspannungsanwendungen.

 

Darüber hinaus gibt es erste Anzeichen für Reinvestitionen in Solar-, ROY-LED- und AR-Micro-LED-Anwendungen. Diese Entwicklungen könnten sich im kommenden Jahr positiv auf das Geschäft von AIXTRON auswirken.

 

Aufgrund des derzeitigen schwachen Marktumfelds und unter der Annahme eines Wechselkurses von 1,15 USD/EUR für den Rest des Geschäftsjahres 2025 aufgrund von Währungsrisiken (zuvor 1,10 USD/EUR) hat AIXTRON die Prognose für das Geschäftsjahr 2025 am 17. Oktober angepasst. Der Vorstand erwartet nun einen Umsatz in einer Bandbreite zwischen EUR 530 Mio. und EUR 565 Mio. (vorher: EUR 530 Mio. und EUR 600 Mio.), eine Bruttomarge von rund 40% bis 41%  (vorher:  41% bis 42%) sowie eine EBIT-Marge von rund 17% bis 19% (vorher: 18% bis 22%).

 

„Der Nachfrageaufschwung hat sich im dritten Quartal 2025 noch nicht materialisiert, sodass wir davon ausgehen, in der unteren Hälfte der ursprünglichen Umsatzprognose für das Gesamtjahr zu landen“, sagt Dr. Felix Grawert, Vorstandsvorsitzender der AIXTRON SE und ergänzt: „Die KI-Anforderungen werden die Halbleiterlandschaft stark verändern. Wir sind mit unseren Anlagen ideal positioniert, um diesen Wandel zu unterstützen. Die G10-AsP hat sich zum Tool of Record im Lasersegment entwickelt, und die Auslieferung unseres 100. G10-SiC-Systems ist ein wichtiger Meilenstein in der Leistungselektronik. Auch wenn eine breitere Markterholung noch auf sich warten lässt, bleiben wir dank unserer Innovationskraft und unserer Fokussierung auf diversifizierte Endmärkte weiterhin auf Kurs.“

 

Auftragseingang und Auftragsbestand

Der Auftragseingang in den ersten neun Monaten 2025 belief sich auf EUR 374,7 Mio. (9M/2024: EUR 439,5 Mio.). Im dritten Quartal 2025 lag der Auftragseingang bei EUR 124,0 Mio. (Q3/2024: EUR 143,5 Mio.), was zu einem Book-to-Bill-Verhältnis von 1,04 für das Quartal führte. Zum 30. September 2025 lag der Anlagenauftragsbestand bei EUR 286,5 Mio. (30. September 2024: EUR 384,5 Mio.) und blieb damit gegenüber dem Stand von EUR 289,3 Mio. zum Jahresende 2024 nahezu unverändert.

 

Bruttoergebnis und Bruttomarge

AIXTRON erzielte im dritten Quartal ein Bruttoergebnis von  EUR 46,4 Mio. (Q3/2024: EUR 67,1 Mio.) was einer Bruttomarge von 39% entspricht (Q3/2024: 43%). Negativ wirkten sich hierbei Volumenverschiebungen vom dritten in das vierte Quartal (ca. EUR 8 Mio.) und Währungseffekte (ca. EUR 2 Mio.) aus. In den ersten neun Monaten 2025 wurde ein Bruttoergebnis von EUR 136,2 Mio. (9M/2024: EUR 160,0 Mio.) mit einer Bruttomarge von 37% (9M/2024: 39%) erzielt. Darin enthalten sind Einmalaufwendungen im mittleren einstelligen Millionen EUR-Bereich im Zusammenhang mit dem im ersten Halbjahr durchgeführten Personalabbau im operativen Bereich. Bereinigt um diesen Effekt liegt die Bruttomarge mit rund 38% leicht unter dem Vorjahresniveau.

 

Betriebsaufwendungen und Betriebsergebnis

Die Betriebsaufwendungen stiegen im dritten Quartal 2025 um 4% auf insgesamt EUR 30,9 Mio. (Q3/2024: EUR 29,6 Mio.). Dies ist vor allem auf die um 12% auf EUR 23,7 Mio. (Q3/2024: EUR 21,2 Mio.) gestiegenen Forschungs- und Entwicklungskosten zurückzuführen, die den größten Anteil ausmachen. In den ersten neun Monaten sind die Betriebsaufwendungen um 6% auf EUR 93,9 Mio. (9M/2024: EUR 99,7 Mio.) gefallen. Dies ist auf die um 13% gesunkenen Ausgaben für Forschung und Entwicklung zurückzuführen, die infolge geringerer externe Auftragsarbeiten sowie niedrigerer Kosten für  Verbrauchsmaterial auf EUR 59,7 Mio. zurückgingen (9M/2024: EUR 68,7 Mio.).

 

Das Betriebsergebnis (EBIT) im dritten Quartal 2025 betrug  EUR 15,4 Mio. (Q3/2024: EUR 37,5 Mio.) was einer EBIT-Marge von 13% entspricht. In den ersten neun Monaten 2025 belief sich das Betriebsergebnis (EBIT) auf EUR 42,3 Mio., was einer EBIT-Marge von 11% entspricht und lag damit unter dem Vorjahr (9M/2024: EUR 60,3 Mio.; 15%). Bereinigt um den Einmaleffekt aus dem Personalabbau liegt die EBIT-Marge nach neun Monaten bei rund 12%. Der Rückgang gegenüber dem Vorjahreswert ist in erster Linie auf rückläufige Umsatzerlöse sowie auf negative Wechselkurseffekte zurückzuführen. Das Periodenergebnis in den ersten neun Monaten 2025 belief sich auf EUR 37,3 Mio. (9M/2024: EUR 52,9 Mio.).

 

Free Cashflow stark verbessert

Der Cashflow aus betrieblicher Tätigkeit lag im 3. Quartal 2025 mit EUR 43,4 Mio. deutlich über dem Vorjahr (Q3/2024: EUR 15,4 Mio.), was insbesondere auf die fortgesetzte Optimierung des Working Capitals zurückzuführen ist. Der Free Cashflow profitierte vom verbesserten Cashflow aus betrieblicher Tätigkeit sowie von deutlich geringeren Investitionsausgaben im Vergleich zum Vorjahr und lag in den ersten neun Monaten 2025 bei EUR 110,3 Mio. (9M/2024: EUR -58,0 Mio.). Das entspricht einer Verbesserung von EUR 168,3 Mio. gegenüber dem Vorjahr.

 

AIXTRON wies zum 30. September 2025 liquide Mittel einschließlich sonstiger kurzfristiger finanzieller Vermögenswerte in Höhe von EUR 153,4 Mio. aus (31. Dezember 2024: EUR 64,6 Mio.). Die Eigenkapitalquote stieg auf 85% und unterstreicht damit die starke Finanzlage von AIXTRON (31. Dezember 2024: 83%).

 

„Mit unseren Maßnahmen zur Optimierung des Working Capitals kommen wir planmäßig voran. Nach dem Bau unseres neuen 300-mm-Labors – dem InnoCenter an unserem Hauptsitz in Herzogenrath – sind wir auf einem guten Weg, wieder eine starke Cash-Position aufzubauen. Damit sind wir erneut gut aufgestellt, um die nächste Wachstumswelle erfolgreich zu meistern, sobald die Marktnachfrage wieder anzieht“, sagt Dr. Christian Danninger, Finanzvorstand der AIXTRON SE.

 

Prognose für das Gesamtjahr 2025

Aufgrund des derzeitigen schwachen Marktumfelds und unter der Annahme eines Wechselkurses von 1,15 USD/EUR für den Rest des Geschäftsjahres 2025 aufgrund von Währungsrisiken (zuvor 1,10 USD/EUR) hat AIXTRON die Prognose für das Geschäftsjahr 2025 am 17. Oktober angepasst. Der Vorstand erwartet nun einen Umsatz zwischen EUR 530 Mio. und EUR 565 Mio., was der unteren Hälfte der ursprünglichen Prognose entspricht (zuvor EUR 530 Mio. bis EUR 600 Mio.). Wechselkurseffekte führen zu einer Verringerung der Bruttomarge und der EBIT-Marge um ca. einen Prozentpunkt. Daher wird eine Bruttomarge von rund 40% bis 41% (bisher 41% bis 42%) und eine EBIT-Marge von rund 17% bis 19% (bisher 18% bis 22%) erwartet.

 

In diesen Zahlen sind Einmalaufwendungen im mittleren einstelligen Millionen EUR-Bereich im Zusammenhang mit dem im ersten Halbjahr durchgeführten Personalabbau im operativen Bereich enthalten. Die Maßnahme wird zukünftig zu jährlichen Einsparungen im mittleren einstelligen Millionen EUR-Bereich führen, was einer Verbesserung der Bruttomarge und der EBIT-Marge von rund einem Prozentpunkt entspricht.

 

Der Vorstand wird die Auswirkungen der US-Zollpolitik auf die Weltwirtschaft und daraus eventuell resultierende Gegenmaßnahmen laufend beobachten, um mögliche Effekte auf die eigene Lieferkette und Produktion sowie auf die Kundennachfrage und damit auf die Geschäftsentwicklung von AIXTRON jederzeit einschätzen und – falls erforderlich – Korrekturmaßnahmen einleiten zu können.

 

 

Kennzahlen im Überblick

 

						+/-						+/-
in EUR Mio.		9M 2025		9M 2024		%		Q3 2025		Q3 2024		%
Auftragseingang		374,7		439,5		-15		124,0		143,5		-14
Auftragsbestand (nur Anlagen)		286,5		384,5		-25		286,5		384,5		-25
Umsatzerlöse		369,5		406,4		-9		119,6		156,3		-23
Bruttoergebnis		136,2		160,0		-15		46,4		67,1		-31
%		37%		39%		-2pp		39%		43%		-4pp
Betriebsergebnis (EBIT)		42,3		60,3		-30		15,4		37,5		-59
%		11%		15%		-4pp		13%		24%		-11pp
Periodenergebnis		37,3		52,9		-29		13,0		30,9		-58
%		10%		13%		-3pp		11%		20%		-9pp
Cashflow aus betrieblicher Tätigkeit		128,5		28,2		n.a.*		43,4		15,4		n.a.*
Free Cashflow		110,3		-58,0		n.a.*		39,2		-1,5		n.a.*
Ergebnis je Aktie (in EUR)		0,33		0,47		-30		0,11		0,27		-59

* nicht aussagekräftig wegen zu hoher Periodenschwankungen

 

Finanzinformationen

Die Präsentation zu den Ergebnissen der ersten neun Monate 2025 ist verfügbar unter: www.aixtron.com/de/investoren/ir-praesentationen.

 

Die vollständigen Finanztabellen des Konzerns (Gewinn- und Verlustrechnung, Sonstiges Ergebnis der Periode, Bilanz, Kapitalflussrechnung sowie Entwicklung des Eigenkapitals) zu dieser Pressemitteilung sind als Teil der Konzern-Quartalsmitteilung 9M/2025 abrufbar unter:

www.aixtron.com/de/investoren/publikationen.

 

Telefonkonferenz für Investoren

Im Rahmen der Veröffentlichung der Ergebnisse der ersten neun Monate 2025 wird AIXTRON am Donnerstag, den 30. Oktober, um 15:00 Uhr MEZ (07:00 a.m. PDT, 10:00 a.m. EDT) eine Telefonkonferenz (in englischer Sprache) für Analysten und Investoren abhalten.

 

Um an der Telefonkonferenz teilzunehmen, melden Sie sich bitte online unter „Analyst Conference Call – Q3/2025" an. Sie erhalten dann eine E-Mail mit Ihren persönlichen Zugangsdaten.

 

Einen Audiomitschnitt oder Transkript finden Sie wenige Tage nach der Konferenz unter:
www.aixtron.com/de/investoren/events/telefonkonferenzen.

 

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Medien & Investoren:

Christian Ludwig

Vice President Investor Relations & Corporate Communications

fon +49 (2407) 9030-444

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Über AIXTRON

Die AIXTRON SE (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) ist ein führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Unternehmen wurde 1983 gegründet und hat seinen Sitz in Herzogenrath (Städteregion Aachen) sowie Niederlassungen und Repräsentanzen in Asien, den USA und in Europa. Die Technologielösungen der Gesellschaft werden weltweit von einem breiten Kundenkreis zur Herstellung von leistungsstarken Bauelementen für elektronische und optoelektronische Anwendungen auf Basis von Verbindungshalbleitermaterialien genutzt. Diese Bauelemente werden in einer Vielzahl innovativer Anwendungen, Technologien und Industrien eingesetzt. Dazu gehören beispielsweise Laser-, LED-, und Displaytechnologien, Datenübertragung, SiC- und GaN-Energiemanagement und ‑umwandlung, Kommunikation, Signal‑ und Lichttechnik sowie viele weitere anspruchsvolle High-Tech-Anwendungen.

 

Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT®, AIX-Multi-Ject®, AIXTRON®, Close Coupled Showerhead®, EXP®, EPISON®, Gas Foil Rotation®, Multi-Ject®, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, STExS®, TriJet®.

 

Weitere Informationen über AIXTRON (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) sind im Internet unter www.aixtron.com verfügbar.

 

Zukunftsgerichtete Aussagen

Dieses Dokument kann zukunftsgerichtete Aussagen über das Geschäft, die Finanz- und Ertragslage und Gewinnprognosen von AIXTRON enthalten. Begriffe wie "können", "werden", "erwarten", "rechnen mit", "erwägen", "beabsichtigen", "planen", "glauben", "fortdauern" und "schätzen", Abwandlungen solcher Begriffe oder ähnliche Ausdrücke kennzeichnen diese zukunftsgerichteten Aussagen. Solche zukunftsgerichteten Aussagen geben die gegenwärtigen Beurteilungen, Erwartungen und Annahmen des AIXTRON Managements, von denen zahlreiche außerhalb des AIXTRON Einflussbereiches liegen, wieder und gelten vorbehaltlich bestehender Risiken und Unsicherheiten. Sie sollten kein unangemessenes Vertrauen in die zukunftsgerichteten Aussagen setzen. Sollten sich Risiken oder Ungewissheiten realisieren oder sollten zugrunde liegende Erwartungen zukünftig nicht eintreten beziehungsweise es sich herausstellen, dass Annahmen nicht korrekt waren, so können die tatsächlichen Ergebnisse, Leistungen und Erfolge von AIXTRON wesentlich von denjenigen Ergebnissen abweichen, die ausdrücklich oder implizit in der zukunftsgerichteten Aussage genannt worden sind. Dies kann durch Faktoren verursacht werden, wie zum Beispiel die tatsächlich von AIXTRON erhaltenen Kundenaufträge, den Umfang der Marktnachfrage nach Depositionstechnologie, den Zeitpunkt der endgültigen Abnahme von Erzeugnissen durch die Kunden, das Finanzmarktklima und die Finanzierungsmöglichkeiten von AIXTRON, die allgemeinen Marktbedingungen für Depositionsanlagen, und das makroökonomische Umfeld, Stornierungen, Änderungen oder Verzögerungen bei Produktlieferungen, Beschränkungen der Produktionskapazität, lange Verkaufs- und Qualifizierungszyklen, Schwierigkeiten im Produktionsprozess, die allgemeine Entwicklung der Halbleiterindustrie, eine Verschärfung des Wettbewerbs, Wechselkursschwankungen, die Verfügbarkeit öffentlicher Mittel, Zinsschwankungen bzw. Änderung verfügbarer Zinskonditionen, Verzögerungen bei der Entwicklung und Vermarktung neuer Produkte, eine Verschlechterung der allgemeinen Wirtschaftslage sowie durch alle anderen Faktoren, die AIXTRON in öffentlichen Berichten und Meldungen, insbesondere im Abschnitt Risiken des Jahresberichts, beschrieben hat. In dieser Mitteilung enthaltene zukunftsgerichtete Aussagen beruhen auf den gegenwärtigen Einschätzungen und Prognosen des Vorstands basierend auf den zum Zeitpunkt dieser Mitteilung verfügbaren Informationen. AIXTRON übernimmt keine Verpflichtung zur Aktualisierung oder Überprüfung zukunftsgerichteter Aussagen wegen neuer Informationen, künftiger Ereignisse oder aus sonstigen Gründen, soweit keine ausdrückliche rechtliche Verpflichtung besteht.

Dieses Dokument liegt ebenfalls in englischer Übersetzung vor, bei Abweichungen geht die deutsche maßgebliche Fassung des Dokuments der englischen Übersetzung vor.

 

AIXTRON gibt vorläufige Ergebnisse für das dritte Quartal 2025 bekannt und passt Prognose für das Gesamtjahr 2025 an
 

Herzogenrath, 17. Oktober 2025 – AIXTRON SE (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6 ) passt seine Prognose für das Geschäftsjahr 2025 angesichts des schwachen Marktumfelds und wegen negativer Wechselkurseffekte an.

Der vorläufige Auftragseingang im dritten Quartal 2025 belief sich auf rund 124 Mio. EUR (Q3/2024: 143,4 Mio. EUR), der Umsatz auf rund 120 Mio. EUR (Q3/2024: 156,3 Mio. EUR) und lag damit innerhalb der Prognosespanne von 110 bis 140 Millionen Euro. Der Bruttogewinn und das operative Ergebnis (EBIT) wurden im Quartal durch Volumenverschiebungen vom 3. Quartal 2025 in das 4. Quartal 2024 (ca. 8 Mio. EUR) und Währungseffekte (ca. 2 Mio. EUR) negativ beeinflusst. Infolgedessen belief sich der Bruttogewinn für das vergangene Quartal auf ca. 46 Mio. EUR (3. Quartal 2024: 67,1 Mio. EUR) mit einer Bruttomarge von rund 39 % (Q3/2024: 43 %). Das operative Ergebnis (EBIT) belief sich auf rund 15 Mio. EUR (Q3/2024: 37,5 Mio. EUR), was einer EBIT-Marge von rund 13 % entspricht (Q3/2024: 24 %).

Aufgrund der aktuellen Marktentwicklungen und eines angepassten Wechselkurses von 1,15 USD/EUR für den Rest des Geschäftsjahres 2025 (zuvor 1,10 USD/EUR) passt der Vorstand die Prognose für das Geschäftsjahr 2025 an: Der Vorstand erwartet einen Umsatz zwischen 530 Mio. EUR und 565 Mio. EUR, was der unteren Hälfte der ursprünglichen Prognose entspricht (zuvor 530 Mio. EUR – 600 Mio. EUR). Wechselkurseffekte führen zu einer Verringerung der Bruttomarge und der EBIT-Marge um ca. 1 Prozentpunkt. Daher erwartet der Vorstand eine Bruttomarge von rund 40 % bis 41 % (bisher 41 % bis 42 %) und eine EBIT-Marge von rund 17 % bis 19 % (bisher 18 % bis 22 %).

„Der Nachfrageaufschwung hat sich im dritten Quartal 2025 noch nicht materialisiert, sodass wir die Umsatzprognose für das Gesamtjahr nun auf die untere Hälfte der ursprünglichen Spanne senken“, sagt Dr. Felix Grawert, CEO der AIXTRON SE. „Das dritte Quartal 2025 wurde durch Volumenverschiebungen und Wechselkurseffekte negativ beeinflusst, die sich jedoch nur begrenzt auf unser Gesamtjahresergebnis auswirken. Abgesehen von den negativen Währungseffekten liegen wir hinsichtlich unserer operativen Kennzahlen für das Gesamtjahr 2025 im Plan. Unsere mittel- und langfristigen Wachstumstreiber sind nach wie vor intakt, beispielsweise durch die Einführung neuer 800-V-Architekturen für KI-Rechenzentren, die sowohl SiC als auch GaN verwenden. Durch den Ausbau unserer Marktposition werden wir überproportional vom nächsten Aufschwung profitieren.“

Der vollständige Bericht zum dritten Quartal 2025, einschließlich der endgültigen Ergebnisse für die ersten neun Monate des Jahres 2025, wird wie geplant am 30. Oktober 2025 veröffentlicht.

 

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Über AIXTRON

AIXTRON SE ist ein führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Unternehmen wurde 1983 gegründet und hat seinen Hauptsitz in Herzogenrath (bei Aachen) mit Tochtergesellschaften und Vertriebsniederlassungen in Asien, den Vereinigten Staaten und Europa. Die Technologielösungen von AIXTRON werden von einer Vielzahl von Kunden weltweit eingesetzt, um fortschrittliche Komponenten für elektronische und optoelektronische Anwendungen auf Basis von Verbindungshalbleiter- oder organischen Halbleitermaterialien herzustellen. Solche Komponenten kommen in einer Vielzahl innovativer Anwendungen, Technologien und Branchen zum Einsatz. Dazu gehören Laser- und LED-Anwendungen, Display-Technologien, Datenübertragung, SiC- und GaN-Leistungsmanagement und -umwandlung, Kommunikation, Signalübertragung und Beleuchtung sowie eine Reihe weiterer Spitzenanwendungen.

Unsere eingetragenen Marken: AIXACT®, AIXTRON®, APEVA®, Close Coupled Showerhead®, EXP®, EPISON®, Gas Foil Rotation®, Optacap^TM , OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, STExS®, TriJet®

Weitere Informationen zu AIXTRON (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) finden Sie auf unserer Website unter: www.aixtron.com

Zukunftsgerichtete Aussagen

Dieses Dokument kann zukunftsgerichtete Aussagen über das Geschäft, die Betriebsergebnisse, die Finanzlage und die Ertragsaussichten von AIXTRON enthalten. Diese Aussagen sind durch Wörter wie „können“, „werden“, „erwarten“, „voraussehen“, „erwägen“, „beabsichtigen“, „planen“, „glauben“, „fortsetzen“ und „schätzen“ sowie durch Variationen dieser Wörter oder ähnliche Ausdrücke gekennzeichnet. Diese zukunftsgerichteten Aussagen basieren auf unseren aktuellen Einschätzungen, Erwartungen und Annahmen, von denen viele außerhalb der Kontrolle von AIXTRON liegen und Risiken und Unsicherheiten unterliegen. Sie sollten sich nicht übermäßig auf diese zukunftsgerichteten Aussagen verlassen. Sollten diese Risiken oder Unsicherheiten eintreten oder sollten die zugrunde liegenden Erwartungen nicht eintreten oder sich Annahmen als unrichtig erweisen, können die tatsächlichen Ergebnisse, Leistungen oder Erfolge von AIXTRON erheblich von den in den entsprechenden zukunftsgerichteten Aussagen ausdrücklich oder implizit beschriebenen abweichen. Dies könnte auf eine Vielzahl von Faktoren zurückzuführen sein, wie z. B. die tatsächlichen Kundenaufträge, die AIXTRON erhält, die Nachfrage nach Abscheidungstechnologie auf dem Markt, der Zeitpunkt der endgültigen Abnahme der Produkte durch die Kunden, die Lage auf den Finanzmärkten und der Zugang zu Finanzmitteln für AIXTRON, die allgemeinen Bedingungen auf dem Markt für Abscheidungsanlagen und die makroökonomischen Bedingungen, Stornierungen, Verschiebungen oder Verzögerungen bei Produktlieferungen, Einschränkungen der Produktionskapazität, verlängerte Verkaufs- und Qualifizierungszyklen, Schwierigkeiten im Produktionsprozess, die allgemeine Entwicklung in der Halbleiterindustrie, verstärkter Wettbewerb, Wechselkursschwankungen, Verfügbarkeit öffentlicher Fördermittel, Schwankungen und/oder Änderungen der Zinssätze, Verzögerungen bei der Entwicklung und Vermarktung neuer Produkte, eine Verschlechterung der allgemeinen Wirtschaftslage und alle anderen Faktoren, die in Berichten oder anderen Mitteilungen, insbesondere im Kapitel „Risiken” des von AIXTRON eingereichten Geschäftsberichts, erörtert werden. Alle in diesem Dokument enthaltenen zukunftsgerichteten Aussagen basieren auf den aktuellen Erwartungen und Prognosen des Vorstands auf der Grundlage der zum Zeitpunkt der Veröffentlichung verfügbaren Informationen. AIXTRON übernimmt keine Verpflichtung, zukunftsgerichtete Aussagen aufgrund neuer Informationen, zukünftiger Ereignisse oder aus anderen Gründen  zu revidieren oder zu aktualisieren, es sei denn, dies ist gesetzlich ausdrücklich vorgeschrieben. 

 

Dieses Dokument ist eine englische Übersetzung eines Dokuments in deutscher Sprache. Im Falle von Abweichungen ist das deutsche Dokument maßgebend und gilt als gültige Fassung.

AIXTRON gibt vorläufige Ergebnisse für das dritte Quartal 2025 bekannt und passt Prognose für das Gesamtjahr 2025 an

 

Herzogenrath, 17. Oktober 2025 – AIXTRON SE (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6 ) passt seine Prognose für das Geschäftsjahr 2025 angesichts des schwachen Marktumfelds und wegen negativer Wechselkurseffekten an.

Der vorläufige Auftragseingang im dritten Quartal 2025 belief sich auf rund 124 Mio. EUR (Q3/2024: 143,4 Mio. EUR), der Umsatz auf rund 120 Mio. EUR (Q3/2024: 156,3 Mio. EUR) und lag damit innerhalb der Prognosespanne von 110 bis 140 Millionen Euro. Der Bruttogewinn und das operative Ergebnis (EBIT) wurden im Quartal durch Volumenverschiebungen vom 3. Quartal 2025 in das 4. Quartal 2024 (ca. 8 Mio. EUR) und Währungseffekte (ca. 2 Mio. EUR) negativ beeinflusst. Infolgedessen belief sich der Bruttogewinn für das vergangene Quartal auf ca. 46 Mio. EUR (3. Quartal 2024: 67,1 Mio. EUR) mit einer Bruttomarge von rund 39 % (Q3/2024: 43 %). Das operative Ergebnis (EBIT) belief sich auf rund 15 Mio. EUR (Q3/2024: 37,5 Mio. EUR), was einer EBIT-Marge von rund 13 % entspricht (Q3/2024: 24 %).

Aufgrund der aktuellen Marktentwicklungen und eines angepassten Wechselkurses von 1,15 USD/EUR für den Rest des Geschäftsjahres 2025 (zuvor 1,10 USD/EUR) passt der Vorstand die Prognose für das Geschäftsjahr 2025 an: Der Vorstand erwartet einen Umsatz zwischen 530 Mio. EUR und 565 Mio. EUR, was der unteren Hälfte der ursprünglichen Prognose entspricht (zuvor 530 Mio. EUR – 600 Mio. EUR). Wechselkurseffekte führen zu einer Verringerung der Bruttomarge und der EBIT-Marge um ca. 1 Prozentpunkt. Daher erwartet der Vorstand eine Bruttomarge von rund 40 % bis 41 % (bisher 41 % bis 42 %) und eine EBIT-Marge von rund 17 % bis 19 % (bisher 18 % bis 22 %).

Der vollständige Bericht zum dritten Quartal 2025, einschließlich der endgültigen Ergebnisse für die ersten neun Monate des Jahres 2025, wird wie geplant am 30. Oktober 2025 veröffentlicht.

 

Ansprechpartner

Christian Ludwig

Vice President Investor Relations & Corporate Communications
Tel. +49 (2407) 9030-444
E-Mail c.ludwig@aixtron.com

 

Über AIXTRON

AIXTRON SE ist ein führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Unternehmen wurde 1983 gegründet und hat seinen Hauptsitz in Herzogenrath (bei Aachen) sowie Tochtergesellschaften und Vertriebsniederlassungen in Asien, den Vereinigten Staaten und Europa. Die Technologielösungen von AIXTRON werden von einer Vielzahl von Kunden weltweit eingesetzt, um fortschrittliche Komponenten für elektronische und optoelektronische Anwendungen auf Basis von Verbindungshalbleiter- oder organischen Halbleitermaterialien herzustellen. Diese Komponenten kommen in einer Vielzahl innovativer Anwendungen, Technologien und Branchen zum Einsatz. Dazu gehören Laser- und LED-Anwendungen, Display-Technologien, Datenübertragung, SiC- und GaN-Leistungsmanagement und -umwandlung, Kommunikation, Signalübertragung und Beleuchtung sowie eine Reihe weiterer hochmoderner Anwendungen.

Unsere eingetragenen Marken: AIXACT®, AIXTRON®, Atomic Level SolutionS®, Close Coupled Showerhead®, CRIUS®, Gas Foil Rotation®, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, TriJet®

Weitere Informationen zu AIXTRON (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) finden Sie auf unserer Website unter: www.aixtron.com

Zukunftsgerichtete Aussagen

Dieses Dokument kann zukunftsgerichtete Aussagen über das Geschäft, die Betriebsergebnisse, die Finanzlage und die Ertragsaussichten von AIXTRON enthalten. Diese Aussagen sind durch Wörter wie „können“, „werden“, „erwarten“, „voraussehen“, „erwägen“, „beabsichtigen“, „planen“, „glauben“, „fortsetzen“ und „schätzen“ sowie durch Variationen dieser Wörter oder ähnliche Ausdrücke gekennzeichnet. Diese zukunftsgerichteten Aussagen basieren auf unseren aktuellen Einschätzungen, Erwartungen und Annahmen, von denen viele außerhalb der Kontrolle von AIXTRON liegen und Risiken und Unsicherheiten unterliegen. Sie sollten sich nicht übermäßig auf diese zukunftsgerichteten Aussagen verlassen. Sollten diese Risiken oder Unsicherheiten eintreten oder sollten die zugrunde liegenden Erwartungen nicht eintreten oder sich Annahmen als unrichtig erweisen, können die tatsächlichen Ergebnisse, Leistungen oder Erfolge von AIXTRON erheblich von den in den entsprechenden zukunftsgerichteten Aussagen ausdrücklich oder implizit beschriebenen abweichen. Dies könnte auf eine Vielzahl von Faktoren zurückzuführen sein, wie z. B. die tatsächlichen Kundenaufträge, die AIXTRON erhält, die Nachfrage nach Abscheidungstechnologie auf dem Markt, der Zeitpunkt der endgültigen Abnahme der Produkte durch die Kunden, die Lage auf den Finanzmärkten und der Zugang zu Finanzmitteln für AIXTRON, die allgemeinen Bedingungen auf dem Markt für Abscheidungsanlagen und die makroökonomischen Bedingungen, Stornierungen, Verschiebungen oder Verzögerungen bei Produktlieferungen, Einschränkungen der Produktionskapazität, verlängerte Verkaufs- und Qualifizierungszyklen, Schwierigkeiten im Produktionsprozess, die allgemeine Entwicklung in der Halbleiterindustrie, verstärkter Wettbewerb, Wechselkursschwankungen, Verfügbarkeit öffentlicher Fördermittel, Schwankungen und/oder Änderungen der Zinssätze, Verzögerungen bei der Entwicklung und Vermarktung neuer Produkte, eine Verschlechterung der allgemeinen Wirtschaftslage und alle anderen Faktoren, die in Berichten oder anderen Mitteilungen, insbesondere im Kapitel „Risiken” des von AIXTRON eingereichten Geschäftsberichts, erörtert werden. Alle in diesem Dokument enthaltenen zukunftsgerichteten Aussagen basieren auf den aktuellen Erwartungen und Prognosen des Vorstands auf der Grundlage der zum Zeitpunkt der Veröffentlichung verfügbaren Informationen. AIXTRON übernimmt keine Verpflichtung, zukunftsgerichtete Aussagen aufgrund neuer Informationen, zukünftiger Ereignisse oder aus anderen Gründen  zu revidieren oder zu aktualisieren, es sei denn, dies ist gesetzlich ausdrücklich vorgeschrieben. 

 

Dieses Dokument ist eine englische Übersetzung eines Dokuments in deutscher Sprache. Im Falle von Abweichungen ist das deutsche Dokument maßgebend und gilt als gültige Fassung.

 

AIXTRON tritt 300-mm-GaN-Forschungsprogramm mit Hyperion 300 mm Anlage bei

 

Herzogenrath, 7. Oktober 2025 – AIXTRON SE (FSE: AIXA) beteiligt sich als einer der ersten Partner mit seinem Hyperion GaN-MOCVD-System an einem 300-mm-GaN-Programm für Leistungselektronik. Das Hyperion-System wird genutzt, um 300 mm Epitaxiewafer für das Programm und dessen Partner bereitzustellen und damit die Entwicklung von Nieder- und Hochspannungs-Leistungselektronikanwendungen zu unterstützen – beispielsweise On-Board-Charger und DC/DC-Wandler für Elektrofahrzeuge, Wechselrichter für Solaranlagen sowie Stromverteilungssysteme für AI-Rechenzentren.

 

Imec, das renommierte Halbleiter-Forschungsinstitut mit Sitz in Leuven (Belgien), hat sein GaN-Power-Programm, das bisher auf 200 mm Wafern basiert, um ein neues 300 mm Programm erweitert, um GaN-Epitaxiewachstum und Prozessabläufe für nieder- und hochvoltige GaN-High-Electron-Mobility-Transistors (HEMT) zu entwickeln. Der Einsatz von 300 mm Substraten wird nicht nur die Herstellungskosten für GaN-Bauelemente senken, sondern auch die Entwicklung fortschrittlicherer Leistungselektronikbausteine ermöglichen – etwa hocheffiziente Niederspannungs-Point-of-Load-Wandler für CPUs und GPUs. AIXTRON unterstützt dieses neue Programm mit seinem Hyperion 300 mm GaN-MOCVD-System in imecs hochmodernem Reinraum in Leuven. Das System wird Epitaxiewafer für das Programm und dessen Partner liefern, um die Entwicklung von Nieder- und Hochvolt-Leistungselektronikanwendungen voranzutreiben.

 

„Wir sind sehr stolz, erneut mit imec zusammenzuarbeiten, um die Entwicklung im Bereich GaN-Power voranzutreiben. Dank der In-Situ-Reinigungsfunktionen ist unsere Hyperion 300 mm GaN-MOCVD-Plattform bislang die einzige vollautomatisierte Plattform. Sie ermöglicht es unseren Kunden, 300 mm GaN-Epitaxie nahtlos in ihre Silizium-Reinräume zu integrieren“, sagt Dr. Felix Grawert, CEO der AIXTRON SE, und ergänzt: „Es war für uns nur konsequent, die Partnerschaft mit imec im Bereich 300 mm GaN fortzusetzen, um die Einführung der Galliumnitrid-Technologie in immer mehr siliziumbasierten Anwendungen weiter zu beschleunigen. Die Zusammenarbeit stellt sicher, dass unsere Kunden direkt auf ihren MOCVD-Systemen von den neuesten Prozessfortschritten bei imec profitieren.“

 

AIXTRON und imec sind langjährige Partner in mehreren Programmen, in denen imec sowohl die AIXTRON G5+ C als auch die G10-GaN Anlage in seinem Reinraum einsetzt, um die Entwicklung von GaN-Power- und HF-Bauelementen für alle Forschungspartner voranzutreiben. Nachdem seit 2024 bereits an 300-mm-GaN-Power gearbeitet wurde, schafft diese neue Partnerschaft einen starken gegenseitigen Mehrwert für imec und AIXTRON: Sie beschleunigt die Verfügbarkeit vorproduktionsreifer Epitaxie-Rezepturen und Prozessabläufe, die Partner direkt auf ihren AIXTRON-MOCVD-Systemen nutzen können, um mit ihrer Produktentwicklung zu beginnen.

 

 

 

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Über AIXTRON

Die AIXTRON SE (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) ist ein führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Unternehmen wurde 1983 gegründet und hat seinen Sitz in Herzogenrath (Städteregion Aachen) sowie Niederlassungen und Repräsentanzen in Asien, den USA und in Europa. Die Technologielösungen der Gesellschaft werden weltweit von einem breiten Kundenkreis zur Herstellung von leistungsstarken Bauelementen für elektronische und optoelektronische Anwendungen auf Basis von Verbindungshalbleiter- oder organischen Halbleitermaterialien genutzt. Diese Bauelemente werden in einer Vielzahl innovativer Anwendungen, Technologien und Industrien eingesetzt. Dazu gehören beispielsweise Laser-, LED-, und Displaytechnologien, Datenübertragung, SiC- und GaN-Energiemanagement und ‑umwandlung, Kommunikation, Signal‑ und Lichttechnik sowie viele weitere anspruchsvolle High-Tech-Anwendungen.

Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT(R), AIXTRON(R), APEVA(R), Atomic Level SolutionS(R), Close Coupled Showerhead(R), CRIUS(R), EXP(R), EPISON(R), Gas Foil Rotation(R), Optacap(TM), OVPD(R), Planetary Reactor(R), PVPD(R), STExS(R), TriJet(R)

Weitere Informationen über AIXTRON (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) sind im Internet unter www.aixtron.com verfügbar.

 

Zukunftsgerichtete Aussagen

Dieses Dokument kann zukunftsgerichtete Aussagen über das Geschäft, die Finanz- und Ertragslage und Gewinnprognosen von AIXTRON enthalten. Begriffe wie "können", "werden", "erwarten", "rechnen mit", "erwägen", "beabsichtigen", "planen", "glauben", "fortdauern" und "schätzen", Abwandlungen solcher Begriffe oder ähnliche Ausdrücke kennzeichnen diese zukunftsgerichteten Aussagen. Solche zukunftsgerichtete Aussagen geben die gegenwärtigen Beurteilungen, Erwartungen und Annahmen des AIXTRON Managements, von denen zahlreiche außerhalb des AIXTRON Einflussbereiches liegen, wieder und gelten vorbehaltlich bestehender Risiken und Unsicherheiten. Sie sollten kein unangemessenes Vertrauen in die zukunftsgerichteten Aussagen setzen. Sollten sich Risiken oder Ungewissheiten realisieren oder sollten zugrunde liegende Erwartungen zukünftig nicht eintreten beziehungsweise es sich herausstellen, dass Annahmen nicht korrekt waren, so können die tatsächlichen Ergebnisse, Leistungen und Erfolge von AIXTRON wesentlich von denjenigen Ergebnissen abweichen, die ausdrücklich oder implizit in der zukunftsgerichteten Aussage genannt worden sind.. Dies kann durch Faktoren verursacht werden, wie zum Beispiel die tatsächlich von AIXTRON erhaltenen Kundenaufträge, den Umfang der Marktnachfrage nach Depositionstechnologie, den Zeitpunkt der endgültigen Abnahme von Erzeugnissen durch die Kunden, das Finanzmarktklima und die Finanzierungsmöglichkeiten von AIXTRON, die allgemeinen Marktbedingungen für Depositionsanlagen, und das makroökonomische Umfeld, Stornierungen, Änderungen oder Verzögerungen bei Produktlieferungen, Beschränkungen der Produktionskapazität, lange Verkaufs- und Qualifizierungszyklen, Schwierigkeiten im Produktionsprozess, die allgemeine Entwicklung der Halbleiterindustrie, eine Verschärfung des Wettbewerbs, Wechselkursschwankungen, die Verfügbarkeit öffentlicher Mittel, Zinsschwankungen bzw. Änderung verfügbarer Zinskonditionen, Verzögerungen bei der Entwicklung und Vermarktung neuer Produkte, eine Verschlechterung der allgemeinen Wirtschaftslage sowie durch alle anderen Faktoren, die AIXTRON in öffentlichen Berichten und Meldungen, insbesondere im Abschnitt Risiken des Jahresberichts, beschrieben hat. In dieser Mitteilung enthaltene zukunftsgerichtete Aussagen beruhen auf den gegenwärtigen Einschätzungen und Prognosen des Vorstands basierend auf den zum Zeitpunkt dieser Mitteilung verfügbaren Informationen. AIXTRON übernimmt keine Verpflichtung zur Aktualisierung oder Überprüfung zukunftsgerichteter Aussagen wegen neuer Informationen, künftiger Ereignisse oder aus sonstigen Gründen, soweit keine ausdrückliche rechtliche Verpflichtung besteht.

Dieses Dokument liegt ebenfalls in englischer Übersetzung vor, bei Abweichungen geht die deutsche maßgebliche Fassung des Dokuments der englischen Übersetzung vor.

 

 

 

Erste AIXTRON MOCVD-Anlage für Scandium- und Yttrium-haltige Verbindungshalbleiter an der Cornell Universität installiert

 

Herzogenrath, 30. September 2025 – Die Cornell University in Ithaca, New York, hat ein hochmodernes Close Coupled Showerhead® (CCS) Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD)-System von AIXTRON SE (FSE: AIXA) erworben. Das MOCVD-System wird die Arbeit der Materialwissenschaftlichen Fakultät der Cornell University stärken und ihre Möglichkeiten zur Erforschung und Entwicklung fortschrittlicher scandium- und yttriumhaltigen Materialien mit vielversprechenden Anwendungsmöglichkeiten in der Elektronik erweitern.

 

Die Anschaffung durch die Cornell University ist die erste Installation eines AIXTRON CCS MOCVD-Systems an der Universität und stellt eine bedeutende Aufwertung ihrer Forschungsinfrastruktur dar. Das CCS-System ermöglicht die Abscheidung hochwertiger, hochgradig gleichmäßiger Dünnschichten – eine wesentliche Voraussetzung für bahnbrechende Halbleiter-Bauelemente. Insbesondere die Einbindung von Scandium (Sc) oder Yttrium (Y) in bestimmte Materialsysteme kann die piezoelektrischen Eigenschaften deutlich verbessern. In einigen Berichten wurde bereits gezeigt, dass ein Anteil von wenigen Prozent Scandium die piezoelektrischen Koeffizienten um ein Vielfaches erhöhen kann, was in Transistoren höhere Stromdichten oder den Betrieb bei höheren Frequenzen ermöglicht. Yttrium (Y) spielt ebenfalls eine entscheidende Rolle bei der Anpassung der elektronischen und ferroelektrischen Eigenschaften für energieeffiziente und leistungsstarke elektronische Komponenten.

 

AIXTRONs CCS-MOCVD-System zeichnet sich durch die Möglichkeit aus, Präkursoren mit niedrigem Dampfdruck zu verarbeiten. Gleichzeitig wird das Wachstum bei hohen Partialdrücken von Scandium in Barriereschichten und aktiven Schichten ermöglicht. Für diese Installation wird das MOCVD-System mit einer neu entwickelten Hochtemperaturquelle und einer optimierten Präkursor-Handhabung ausgestattet, die eine stabile, kontrollierbare Einbindung von Sc und Y ermöglichen, ohne die Gleichmäßigkeit der Schicht zu beeinträchtigen. Diese Funktionen ermöglichen es Forschern, Materialien und Bauelement-Designs zu erforschen, die bisher schwer zu realisieren waren. Somit wird eine Brücke zwischen wissenschaftlichen Entdeckungen und skalierbaren Prozessbedingungen geschlagen.

 

„Wir freuen uns sehr, das CCS MOCVD-Werkzeug von AIXTRON in die Materialwissenschaftliche Fakultät zu integrieren“, sagte Professor Hari Nair, Assistenzprofessor in der Materialwissenschaftlichen Fakultät der Cornell University. „Diese Anschaffung ist ein wichtiger Schritt vorwärts in unserem Engagement für wegweisende Forschung. Die Möglichkeit, Quellenmaterialien mit niedrigem Dampfdruck für Scandium und Yttrium unter kontrollierten Bedingungen in den Reaktor einzubringen, eröffnet neue Wege, die piezoelektrischen und ferroelektrischen Eigenschaften dieser Schichtsysteme zu verbessern. Diese Scandium oder Yttrium enthaltende Schichten sind sehr wünschenswert für elektronische Systeme der nächsten Generation.“

 

„Wir sind stolz darauf, die Fakultät für Materialwissenschaften der Cornell University mit unserer CCS-MOCVD-Technologie zu unterstützen“, sagte Dr. Felix Grawert, CEO von AIXTRON SE. „Unsere Systeme sind so konzipiert, dass sie den anspruchsvollen Anforderungen der Forschung im Bereich neuer Materialien gerecht werden. Die maßgeschneiderte Hochtemperaturquelle und das fortschrittliche Präkursoren-Management der Quellenmaterialien dieses Tools unterstreichen das Engagement von AIXTRON, das Bearbeiten neuer Materialien zu ermöglichen und Laborinnovationen in industriell relevante Prozesse umzusetzen.“

 

Die Anschaffung des CCS-MOCVD-Systems durch Cornell ist ein wichtiger Meilenstein im Streben der Universität nach exzellenter Forschung. Die Universität freut sich auf die Entdeckungen, Innovationen und interdisziplinären Kooperationen, die dieses Gerät ermöglichen wird, darunter Partnerschaften mit Industrie und akademischen Einrichtungen weltweit.

 

 

 

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Die AIXTRON SE (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) ist ein führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Unternehmen wurde 1983 gegründet und hat seinen Sitz in Herzogenrath (Städteregion Aachen) sowie Niederlassungen und Repräsentanzen in Asien, den USA und in Europa. Die Technologielösungen der Gesellschaft werden weltweit von einem breiten Kundenkreis zur Herstellung von leistungsstarken Bauelementen für elektronische und optoelektronische Anwendungen auf Basis von Verbindungshalbleiter- oder organischen Halbleitermaterialien genutzt. Diese Bauelemente werden in einer Vielzahl innovativer Anwendungen, Technologien und Industrien eingesetzt. Dazu gehören beispielsweise Laser-, LED-, und Displaytechnologien, Datenübertragung, SiC- und GaN-Energiemanagement und ‑umwandlung, Kommunikation, Signal‑ und Lichttechnik sowie viele weitere anspruchsvolle High-Tech-Anwendungen.

Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT(R), AIXTRON(R), APEVA(R), Atomic Level SolutionS(R), Close Coupled Showerhead(R), CRIUS(R), EXP(R), EPISON(R), Gas Foil Rotation(R), Optacap(TM), OVPD(R), Planetary Reactor(R), PVPD(R), STExS(R), TriJet(R)

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Dieses Dokument kann zukunftsgerichtete Aussagen über das Geschäft, die Finanz- und Ertragslage und Gewinnprognosen von AIXTRON enthalten. Begriffe wie "können", "werden", "erwarten", "rechnen mit", "erwägen", "beabsichtigen", "planen", "glauben", "fortdauern" und "schätzen", Abwandlungen solcher Begriffe oder ähnliche Ausdrücke kennzeichnen diese zukunftsgerichteten Aussagen. Solche zukunftsgerichtete Aussagen geben die gegenwärtigen Beurteilungen, Erwartungen und Annahmen des AIXTRON Managements, von denen zahlreiche außerhalb des AIXTRON Einflussbereiches liegen, wieder und gelten vorbehaltlich bestehender Risiken und Unsicherheiten. Sie sollten kein unangemessenes Vertrauen in die zukunftsgerichteten Aussagen setzen. Sollten sich Risiken oder Ungewissheiten realisieren oder sollten zugrunde liegende Erwartungen zukünftig nicht eintreten beziehungsweise es sich herausstellen, dass Annahmen nicht korrekt waren, so können die tatsächlichen Ergebnisse, Leistungen und Erfolge von AIXTRON wesentlich von denjenigen Ergebnissen abweichen, die ausdrücklich oder implizit in der zukunftsgerichteten Aussage genannt worden sind.. Dies kann durch Faktoren verursacht werden, wie zum Beispiel die tatsächlich von AIXTRON erhaltenen Kundenaufträge, den Umfang der Marktnachfrage nach Depositionstechnologie, den Zeitpunkt der endgültigen Abnahme von Erzeugnissen durch die Kunden, das Finanzmarktklima und die Finanzierungsmöglichkeiten von AIXTRON, die allgemeinen Marktbedingungen für Depositionsanlagen, und das makroökonomische Umfeld, Stornierungen, Änderungen oder Verzögerungen bei Produktlieferungen, Beschränkungen der Produktionskapazität, lange Verkaufs- und Qualifizierungszyklen, Schwierigkeiten im Produktionsprozess, die allgemeine Entwicklung der Halbleiterindustrie, eine Verschärfung des Wettbewerbs, Wechselkursschwankungen, die Verfügbarkeit öffentlicher Mittel, Zinsschwankungen bzw. Änderung verfügbarer Zinskonditionen, Verzögerungen bei der Entwicklung und Vermarktung neuer Produkte, eine Verschlechterung der allgemeinen Wirtschaftslage sowie durch alle anderen Faktoren, die AIXTRON in öffentlichen Berichten und Meldungen, insbesondere im Abschnitt Risiken des Jahresberichts, beschrieben hat. In dieser Mitteilung enthaltene zukunftsgerichtete Aussagen beruhen auf den gegenwärtigen Einschätzungen und Prognosen des Vorstands basierend auf den zum Zeitpunkt dieser Mitteilung verfügbaren Informationen. AIXTRON übernimmt keine Verpflichtung zur Aktualisierung oder Überprüfung zukunftsgerichteter Aussagen wegen neuer Informationen, künftiger Ereignisse oder aus sonstigen Gründen, soweit keine ausdrückliche rechtliche Verpflichtung besteht.

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AIXTRON erreicht Meilenstein: 100. G10-SiC-Anlage ausgeliefert

 

Herzogenrath, 22. September 2025 – AIXTRON SE (FSE: AIXA) liefert sein 100. G10-SiC-System aus. Dieser Meilenstein unterstreicht die starke Marktnachfrage nach der G10-SiC-Epitaxie-Batch-Technologie von AIXTRON in den letzten drei Jahren und stärkt die weltweite Fertigung von Siliziumkarbid-Leistungsbauelementen für die Leistungselektronik der nächsten Generation.

 

AIXTRON, führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, gab heute die Auslieferung seines 100. G10-SiC-Systems bekannt. Die Lieferung erfolgte an einen europäischen Hersteller von Leistungsbauelementen und -systemen und dient dem Ausbau seiner Produktionskapazitäten für 200 mm Siliziumkarbid (SiC)-Epitaxie.

 

Dieser Erfolg verdeutlicht die weltweite Nutzung der SiC Planetary Reactor®-Technologie von AIXTRON, die die Herstellung von sehr gleichmäßigem und qualitativ hochwertigem Siliziumkarbidschichten ermöglicht – einem der entscheidenden Schritte zur Produktion effizienter SiC-Leistungshalbleiter. Nur drei Jahre nach Markteinführung ist AIXTRONs fortschrittliche SiC-Epitaxieanlage weltweit bei den meisten Herstellern von SiC-Bauelementen, Halbleiterfertigungsbetrieben und Epitaxie-Dienstleistern im Einsatz.

 

„Die Auslieferung des 100. G10-SiC-Systems ist ein bedeutender Meilenstein für AIXTRON und unsere Kunden“, sagte Dr. Frank Wischmeyer, Vice President Silicon Carbide bei AIXTRON. „Sie zeigt das große Vertrauen des Marktes in unsere Technologie und bestätigt unsere führende Rolle beim globalen Ausbau der SiC-Leistungselektronik – einem zentralen Treiber der fortschreitenden Elektrifizierung unserer Gesellschaft.“

 

Siliziumkarbid ist ein Halbleiter mit breiter Bandlücke, der die Leistungswandlung in verschiedensten Industriezweigen grundlegend revolutioniert. Dank seiner hohen Effizienz und Leistungsfähigkeit wird es zunehmend in Elektrofahrzeugen, erneuerbaren Energiesystemen und industriellen Stromversorgungen eingesetzt. Darüber hinaus findet Siliziumkarbid verstärkt Anwendung in kompakten Hochleistungsanwendungen – etwa bei leistungsstarken Stromversorgungen ab 12kW für KI-basierte Serverfarmen.

 

AIXTRONs G10-SiC-System kombiniert in seiner einzigartigen 6×200mm Multi-Wafer-Batch-Konfiguration höchste Produktionsleistung mit optimaler Qualität und Ausbeute der Epitaxialschichten. Die Multi-Ject®-Technologie sorgt für eine gleichmäßige Schichtbildung über ein breites Spektrum von Spannungsklassen der SiC-Halbleiter.

Die Anlage ermöglicht auch die Massenproduktion auf 150-mm-Wafern und garantiert damit Flexibilität während der Umstellung der Branche auf die größeren 200-mm-Waferformate.

 

 

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Die AIXTRON SE (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) ist ein führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Unternehmen wurde 1983 gegründet und hat seinen Sitz in Herzogenrath (Städteregion Aachen) sowie Niederlassungen und Repräsentanzen in Asien, den USA und in Europa. Die Technologielösungen der Gesellschaft werden weltweit von einem breiten Kundenkreis zur Herstellung von leistungsstarken Bauelementen für elektronische und optoelektronische Anwendungen auf Basis von Verbindungshalbleiter- oder organischen Halbleitermaterialien genutzt. Diese Bauelemente werden in einer Vielzahl innovativer Anwendungen, Technologien und Industrien eingesetzt. Dazu gehören beispielsweise Laser-, LED-, und Displaytechnologien, Datenübertragung, SiC- und GaN-Energiemanagement und ‑umwandlung, Kommunikation, Signal‑ und Lichttechnik sowie viele weitere anspruchsvolle High-Tech-Anwendungen.

Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT(R), AIXTRON(R), APEVA(R), Atomic Level SolutionS(R), Close Coupled Showerhead(R), CRIUS(R), EXP(R), EPISON(R), Gas Foil Rotation(R), Optacap(TM), OVPD(R), Planetary Reactor(R), PVPD(R), STExS(R), TriJet(R)

Weitere Informationen über AIXTRON (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) sind im Internet unter www.aixtron.com verfügbar.

 

 

 

Zukunftsgerichtete Aussagen

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Dieses Dokument liegt ebenfalls in englischer Übersetzung vor, bei Abweichungen geht die deutsche maßgebliche Fassung des Dokuments der englischen Übersetzung vor.

 

 

 

 

Hiermit gibt die AIXTRON SE bekannt, dass folgende Finanzberichte veröffentlicht werden:

Berichtsart: Jahresfinanzbericht

Sprache: Deutsch
Veröffentlichungsdatum: 26.02.2026
Ort: https://www.aixtron.com/de/investoren/publikationen

Sprache: Englisch
Veröffentlichungsdatum: 26.02.2026
Ort: https://www.aixtron.com/en/investors/publications

Berichtsart: Konzern-Jahresfinanzbericht

Sprache: Deutsch
Veröffentlichungsdatum: 26.02.2026
Ort: https://www.aixtron.com/de/investoren/publikationen

Sprache: Englisch
Veröffentlichungsdatum: 26.02.2026
Ort: https://www.aixtron.com/en/investors/publications

Berichtsart: Konzern-Finanzbericht (Halbjahr/Q2)

Sprache: Deutsch
Veröffentlichungsdatum: 30.07.2026
Ort: https://www.aixtron.com/de/investoren/publikationen

Sprache: Englisch
Veröffentlichungsdatum: 30.07.2026
Ort: https://www.aixtron.com/en/investors/publications

Anhaltende Auftragsdynamik in der Optoelektronik im Q2

Anhaltend starke Nachfrage aus dem Bereich Datenkommunikation für KI-Rechenzentren / G10-AsP als „Tool of Record“ etabliert / Umsatz am oberen Ende der Prognosespanne / Starker Free Cashflow / Jahresprognose für 2025 bestätigt

 

Herzogenrath, 31. Juli 2025 – AIXTRON SE (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) berichtet für das zweite Quartal des Jahres einen Umsatz von EUR 137,4 Mio. und für das erste Halbjahr in Höhe von EUR 249,9 Mio. (H1/2024: EUR 250,1 Mio.). Damit liegt das Unternehmen am oberen Ende der für das zweite Quartal prognostizierten Spanne von EUR 120 Mio. bis EUR 140 Mio., was eine starke Performance in einem allgemein schwachen Marktumfeld widerspiegelt.

 

Die Nachfrage im Bereich Optoelektronik nimmt weiter zu, angetrieben durch den steigenden Bedarf an Lasern für die Datenkommunikation insbesondere für KI-Rechenzentren. Die G10-Produktserie bleibt ein wichtiger Erfolgsfaktor: Die G10-AsP hat sich im Lasermarkt als neues „Tool of Record“ etabliert, und ein großer   SiC-Volumenauftrag aus China wurde gewonnen und durch die Auslieferung der G10-SiC erfolgreich erfüllt. Der Bereich Leistungselektronik auf Basis von Galliumnitrid (GaN) und Siliziumkarbid (SiC) bleibt weiterhin schwach, wobei die Nachfrage hauptsächlich von asiatischen Kunden getragen wird.

 

AIXTRON bestätigt die Prognose für das Gesamtjahr 2025 (Umsatzerlöse zwischen EUR 530 Mio. und EUR 600 Mio., Bruttomarge von etwa 41% bis 42%, EBIT-Marge von etwa 18% bis 22%).

 

„Unsere Strategie, auf unterschiedliche, nicht korrelierende Endmärkte zu setzen, hat sich weiterhin bewährt. Während die Märkte für SiC- und GaN-Leistungselektronik den Wendepunkt noch nicht erreicht haben, beobachten wir eine weiterhin starke Dynamik im Markt für Datenkommunikationslaser. Unser G10-AsP-Tool hat sich als Tool of Record fest etabliert mit Großaufträgen von vielen der führenden Laserherstellern. Obwohl eine breitere Markterholung noch auf sich warten lässt, sind wir mit unserer starken Umsetzungsleistung weiterhin auf Kurs“, sagt Dr. Felix Grawert, Vorstandsvorsitzender der AIXTRON SE. 

 

Auftragseingang und Auftragsbestand

Die Nachfrage nach SiC-Anlagen profitierte insbesondere von der Umstellung von 150 mm auf 200 mm Wafer sowie vom Bedarf an Anlagen mit höherer Produktivität als Reaktion auf die zunehmende Kostensensibilität der Kunden. Ein Großauftrag für G10-SiC aus China wurde im H1/2025 erhalten und abgeschlossen. Der Auftragseingang in den ersten sechs Monaten 2025 belief sich auf EUR 250,7 Mio. und lag damit im Rahmen der Erwartungen (H1/2024: EUR 296,0 Mio.). Im zweiten Quartal 2025 lag der Auftragseingang bei EUR 118,5 Mio. (Q2/2024: EUR 175,7 Mio.). Zum 30. Juni 2025 lag der Anlagenauftragsbestand bei EUR 284,6 Mio. (30. Juni 2024: EUR 400,6 Mio.) und blieb damit gegenüber dem Stand von EUR 289,3 Mio. zum Jahresende 2024 nahezu unverändert.

 

Bruttoergebnis und Bruttomarge

AIXTRON erzielte in den ersten sechs Monaten 2025 ein Bruttoergebnis von EUR 89,9 Mio. (H1/2024: EUR 92,9 Mio.) mit einer Bruttomarge von 36% (H1/2024: 37%). Darin enthalten sind Einmalaufwendungen im mittleren einstelligen Millionen EUR-Bereich im Zusammenhang mit dem durchgeführten Personalabbau im operativen Bereich. Bereinigt um diesen Effekt liegt die Bruttomarge mit rund 38% leicht über dem Vorjahresniveau, was vor allem auf einen verbesserten Produktmix zurückzuführen ist.

 

Betriebsaufwendungen und Betriebsergebnis

Die Betriebsaufwendungen sanken im zweiten Quartal 2025 um 11% und beliefen sich auf EUR 32,2 Mio. (Q2/2024: EUR 36,3 Mio.). Die Ausgaben für Forschung und Entwicklung, die den größten Anteil ausmachen, wurden in den ersten sechs Monaten des Jahres 2025 um 24% auf EUR 36,0 Mio. (H1/2024: EUR 47,5 Mio.) reduziert, was auf geringere externe Auftragsarbeiten und Verbrauchsmaterialkosten zurückzuführen ist. Starke Wechselkursänderungen führten in den ersten sechs Monaten 2025 zu Aufwendungen aus der Fremdwährungsbewertung in Höhe von EUR 4,6 Mio. (H1/2024: Aufwand EUR 1,9 Mio.).

 

Das Betriebsergebnis (EBIT) betrug in den ersten sechs Monaten 2025 EUR 26,9 Mio., was einer EBIT-Marge von 11% entspricht und lag damit über dem Vorjahr (H1/2024: EUR 22,8 Mio.; 9%). Darin enthalten sind die oben genannten Einmalaufwendungen. Bereinigt um diesen Effekt liegt die EBIT-Marge mit rund 13% deutlich über dem Vorjahresniveau, was vor allem auf den verbesserten Produktmix und geringere F&E-Aufwendungen zurückzuführen ist. Das Periodenergebnis in den ersten sechs Monaten 2025 belief sich auf EUR 24,3 Mio. (H1/2024: EUR 22,0 Mio.).

 

Free Cashflow stark verbessert

Der Cashflow aus betrieblicher Tätigkeit lag im 2. Quartal 2025 mit EUR 50,0 Mio. deutlich über dem Vorjahr (Q2/2024: EUR 20,2 Mio.), was vor allem auf den fortgesetzten Vorratsabbau zurückzuführen ist. Im Vergleich zum Vorjahr wurden die Vorräte um EUR 120 Mio. reduziert (30. Juni 2025: EUR 327,9 Mio.; 30. Juni 2024: EUR 447,9 Mio.). Der Free Cashflow profitierte vom verbesserten Cashflow aus betrieblicher Tätigkeit sowie von deutlich geringeren Investitionsausgaben im Vergleich zum Vorjahr und lag in den ersten sechs Monaten 2025 bei EUR 71,1 Mio. (H1/2024: EUR -56,5 Mio.). Das entspricht einer Verbesserung von EUR 127,6 Mio. gegenüber dem Vorjahr.

 

AIXTRON wies zum 30. Juni 2025 nach Zahlung der Dividende in Höhe von EUR 16,9 Mio. liquide Mittel einschließlich sonstiger kurzfristiger finanzieller Vermögenswerte in Höhe von EUR 114,8 Mio. aus (31. Dezember 2024: EUR 64,6 Mio.). Die Eigenkapitalquote stieg auf 87% und unterstreicht damit die starke Finanzlage von AIXTRON (31. Dezember 2024: 83%).

 

„Die Fortsetzung des positiven Trends bei unserem Free Cashflow unterstreicht, dass wir uns wie geplant entwickeln. Durch die kontinuierliche Optimierung der Vorräte bauen wir unser Working Capital weiter ab. Der Wiederaufbau unserer starken Cash-Position bleibt eine wichtige Priorität, um unsere volle strategische Flexibilität zu gewährleisten“, sagt Dr. Christian Danninger, Finanzvorstand der AIXTRON SE.

 

Prognose für das Gesamtjahr 2025 bestätigt

Basierend auf der aktuellen Marktentwicklung, der aktuellen Zollsituation und dem Budgetkurs von 1,10 USD/EUR bestätigt der Vorstand die Jahresprognose vom 27. Februar 2025. Demnach rechnet der Vorstand für das Geschäftsjahr 2025 mit Umsatzerlösen in einer Bandbreite zwischen EUR 530 Mio. und EUR 600 Mio., einer Bruttomarge von  41% bis 42% sowie einer EBIT-Marge von 18% bis 22%.

 

In diesen Zahlen sind Einmalaufwendungen im mittleren einstelligen Millionen EUR-Bereich im Zusammenhang mit dem durchgeführten Personalabbau im operativen Bereich enthalten. Die Maßnahme wird zukünftig zu jährlichen Einsparungen im mittleren einstelligen Millionen EUR-Bereich führen, was einer Verbesserung der Bruttomarge und der EBIT-Marge von rund 1 Prozentpunkt entspricht.

 

Ein durchschnittlicher USD/EUR-Wechselkurs von 1,20 in der zweiten Hälfte des Geschäftsjahres 2025 könnte die Brutto- und die EBIT-Marge für das Gesamtjahr 2025 um rund 1 Prozentpunkt reduzieren.

 

Der Vorstand wird die Auswirkungen der US-Zollpolitik auf die Weltwirtschaft und daraus eventuell resultierende Gegenmaßnahmen laufend beobachten, um mögliche Effekte auf die eigene Lieferkette und Produktion sowie auf die Kundennachfrage und damit auf die Geschäftsentwicklung von AIXTRON jederzeit einschätzen und – falls erforderlich – Korrekturmaßnahmen einleiten zu können.

 

Für das dritte Quartal 2025 erwartet der Vorstand Umsatzerlöse in einer Bandbreite von rund EUR 110 Mio. bis EUR 140 Mio.

 

Kennzahlen im Überblick

 

						+/-						+/-
in EUR Mio.		H1 2025		H1 2024		%		Q2 2025		Q2 2024		%
Auftragseingang		250,7		296,0		-15		118,5		175,7		-33
Auftragsbestand (nur Anlagen)		284,6		400,6		-29		284,6		400,6		-29
Umsatzerlöse		249,9		250,1		0		137,4		131,8		4
Bruttoergebnis		89,9		92,9		-3		55,7		49,1		13
%		36%		37%		-1pp		41%		37%		4pp
Betriebsergebnis (EBIT)		26,9		22,8		18		23,6		12,9		83
%		11%		9%		2pp		17%		10%		7pp
Periodenergebnis		24,3		22,0		10		19,2		11,2		71
%		10%		9%		1pp		14%		8%		6pp
Cashflow aus betrieblicher Tätigkeit		85,1		12,8		n.a.*		50,0		20,2		n.a.*
Free Cashflow		71,1		-56,5		n.a.*		41,3		-23,4		n.a.*
Ergebnis je Aktie (in EUR)		0,22		0,20		10		0,18		0,10		80

* nicht aussagekräftig wegen zu hoher Periodenschwankungen

 

Finanzinformationen

Die Präsentation zu den Ergebnissen der ersten sechs Monate 2025 ist verfügbar unter: www.aixtron.com/de/investoren/ir-praesentationen.

 

Die vollständigen Finanztabellen des Konzerns (Gewinn- und Verlustrechnung, Sonstiges Ergebnis der Periode, Bilanz, Kapitalflussrechnung sowie Entwicklung des Eigenkapitals) zu dieser Pressemitteilung sind als Teil des Konzern-Halbjahresfinanzberichts H1/2025 abrufbar unter:

www.aixtron.com/de/investoren/publikationen.

 

Telefonkonferenz für Investoren

Im Rahmen der Veröffentlichung der Ergebnisse der ersten sechs Monate 2025 wird AIXTRON am Mittwoch, den 31. Juli 2025, um 15:00 Uhr MESZ (06:00 a.m. PST, 09:00 a.m. EST) eine Telefonkonferenz (in englischer Sprache) für Analysten und Investoren abhalten.

 

Um an der Telefonkonferenz teilzunehmen, melden Sie sich bitte online unter „Analyst Conference Call – Q2/2025" an. Sie erhalten dann eine E-Mail mit Ihren persönlichen Zugangsdaten.

 

Einen Audiomitschnitt oder Transkript finden Sie wenige Tage nach der Konferenz unter:
www.aixtron.com/de/investoren/events/telefonkonferenzen.

 

Ansprechpartner

 

Medien & Investoren:

Christian Ludwig

Vice President Investor Relations & Corporate Communications

fon +49 (2407) 9030-444

e-mail c.ludwig@aixtron.com

 

Über AIXTRON

Die AIXTRON SE (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) ist ein führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Unternehmen wurde 1983 gegründet und hat seinen Sitz in Herzogenrath (Städteregion Aachen) sowie Niederlassungen und Repräsentanzen in Asien, den USA und in Europa. Die Technologielösungen der Gesellschaft werden weltweit von einem breiten Kundenkreis zur Herstellung von leistungsstarken Bauelementen für elektronische und optoelektronische Anwendungen auf Basis von Verbindungshalbleitermaterialien genutzt. Diese Bauelemente werden in einer Vielzahl innovativer Anwendungen, Technologien und Industrien eingesetzt. Dazu gehören beispielsweise Laser-, LED-, und Displaytechnologien, Datenübertragung, SiC- und GaN-Energiemanagement und ‑umwandlung, Kommunikation, Signal‑ und Lichttechnik sowie viele weitere anspruchsvolle High-Tech-Anwendungen.

 

Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT®, AIX-Multi-Ject®, AIXTRON®, Close Coupled Showerhead®, EXP®, EPISON®, Gas Foil Rotation®, Multi-Ject®, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, STExS®, TriJet®.

 

Weitere Informationen über AIXTRON (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) sind im Internet unter www.aixtron.com verfügbar.

 

Zukunftsgerichtete Aussagen

Dieses Dokument kann zukunftsgerichtete Aussagen über das Geschäft, die Finanz- und Ertragslage und Gewinnprognosen von AIXTRON enthalten. Begriffe wie "können", "werden", "erwarten", "rechnen mit", "erwägen", "beabsichtigen", "planen", "glauben", "fortdauern" und "schätzen", Abwandlungen solcher Begriffe oder ähnliche Ausdrücke kennzeichnen diese zukunftsgerichteten Aussagen. Solche zukunftsgerichteten Aussagen geben die gegenwärtigen Beurteilungen, Erwartungen und Annahmen des AIXTRON Managements, von denen zahlreiche außerhalb des AIXTRON Einflussbereiches liegen, wieder und gelten vorbehaltlich bestehender Risiken und Unsicherheiten. Sie sollten kein unangemessenes Vertrauen in die zukunftsgerichteten Aussagen setzen. Sollten sich Risiken oder Ungewissheiten realisieren oder sollten zugrunde liegende Erwartungen zukünftig nicht eintreten beziehungsweise es sich herausstellen, dass Annahmen nicht korrekt waren, so können die tatsächlichen Ergebnisse, Leistungen und Erfolge von AIXTRON wesentlich von denjenigen Ergebnissen abweichen, die ausdrücklich oder implizit in der zukunftsgerichteten Aussage genannt worden sind. Dies kann durch Faktoren verursacht werden, wie zum Beispiel die tatsächlich von AIXTRON erhaltenen Kundenaufträge, den Umfang der Marktnachfrage nach Depositionstechnologie, den Zeitpunkt der endgültigen Abnahme von Erzeugnissen durch die Kunden, das Finanzmarktklima und die Finanzierungsmöglichkeiten von AIXTRON, die allgemeinen Marktbedingungen für Depositionsanlagen, und das makroökonomische Umfeld, Stornierungen, Änderungen oder Verzögerungen bei Produktlieferungen, Beschränkungen der Produktionskapazität, lange Verkaufs- und Qualifizierungszyklen, Schwierigkeiten im Produktionsprozess, die allgemeine Entwicklung der Halbleiterindustrie, eine Verschärfung des Wettbewerbs, Wechselkursschwankungen, die Verfügbarkeit öffentlicher Mittel, Zinsschwankungen bzw. Änderung verfügbarer Zinskonditionen, Verzögerungen bei der Entwicklung und Vermarktung neuer Produkte, eine Verschlechterung der allgemeinen Wirtschaftslage sowie durch alle anderen Faktoren, die AIXTRON in öffentlichen Berichten und Meldungen, insbesondere im Abschnitt Risiken des Jahresberichts, beschrieben hat. In dieser Mitteilung enthaltene zukunftsgerichtete Aussagen beruhen auf den gegenwärtigen Einschätzungen und Prognosen des Vorstands basierend auf den zum Zeitpunkt dieser Mitteilung verfügbaren Informationen. AIXTRON übernimmt keine Verpflichtung zur Aktualisierung oder Überprüfung zukunftsgerichteter Aussagen wegen neuer Informationen, künftiger Ereignisse oder aus sonstigen Gründen, soweit keine ausdrückliche rechtliche Verpflichtung besteht.

Dieses Dokument liegt ebenfalls in englischer Übersetzung vor, bei Abweichungen geht die deutsche maßgebliche Fassung des Dokuments der englischen Übersetzung vor.